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AI與EDA融合引發(fā)Fab革命:華大九天Vision工具開(kāi)啟良率提升之戰(zhàn)

08-21 06:30

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文 / 吳子鵬)據(jù)IC Insights數(shù)據(jù),2025年全球晶圓代工市場(chǎng)規(guī)模有望增至1698億美元。不過(guò),F(xiàn)ab廠的擴(kuò)張與盈利,始終離不開(kāi)良率這一關(guān)鍵因素。


數(shù)據(jù)來(lái)源:IC Insights,電子發(fā)燒友網(wǎng)制圖


傳統(tǒng)工藝診斷依靠人工經(jīng)驗(yàn)和反復(fù)試驗(yàn),難以應(yīng)對(duì)日益復(fù)雜的工藝變量。在這場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中,EDA(電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化)工具借助AI,正引發(fā)一場(chǎng)Fab廠的智能變革。


Fab廠面臨的良率難題


數(shù)據(jù)表明,對(duì)于存儲(chǔ)廠,良率提高1%可能帶來(lái)每年1.1億美元凈利潤(rùn);對(duì)于尖端邏輯Fab廠,良率提升1%意味著1.5億美元凈利潤(rùn)。隨著先進(jìn)制程發(fā)展,這些數(shù)字還在增加。TrendForce報(bào)告指出,3nm工藝的12英寸晶圓單片價(jià)格達(dá)2萬(wàn)美元,較5nm的約1.6萬(wàn)美元上漲25%。


在良率管理上,傳統(tǒng)檢測(cè)方式存在問(wèn)題。人工目檢需檢測(cè)人員逐個(gè)檢查晶圓微觀結(jié)構(gòu),借助顯微鏡等設(shè)備,耗時(shí)久且結(jié)果依賴主觀判斷;規(guī)則算法基于預(yù)定義規(guī)則檢測(cè)缺陷,對(duì)數(shù)據(jù)耦合反應(yīng)差,新缺陷類型出現(xiàn)時(shí)可能無(wú)法識(shí)別。


Fab廠提升良率本質(zhì)上是與“變量”博弈。這些變量貫穿制造全流程,如硅片材料純度波動(dòng)、光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)誤差、蝕刻溫度偏差、薄膜沉積厚度均勻性等。而且變量間有關(guān)聯(lián),工藝提升使變量增多,微小偏差都可能導(dǎo)致良率下降。傳統(tǒng)工藝診斷主觀性強(qiáng)、數(shù)據(jù)割裂、滯后明顯,促使行業(yè)尋求更智能高效的方案。


AI重塑工藝診斷模式


當(dāng)傳統(tǒng)缺陷檢測(cè)和良率優(yōu)化方法效果不佳時(shí),AI正在重塑Fab廠的工藝診斷和良率管理流程。通過(guò)整合Fab廠全鏈路數(shù)據(jù)構(gòu)建高維度模型,AI能精準(zhǔn)定位工藝偏差、分析根源,識(shí)別新缺陷模式并實(shí)現(xiàn)事前預(yù)測(cè)。


AI技術(shù)的價(jià)值讓眾多EDA公司將AI工藝檢測(cè)/良率優(yōu)化納入核心產(chǎn)品路線,部分已進(jìn)入產(chǎn)線驗(yàn)證或量產(chǎn)階段。對(duì)于國(guó)產(chǎn)EDA,AI為其提供了競(jìng)爭(zhēng)機(jī)會(huì),有助于建立自主可控的良率提升體系。華大九天的Vision平臺(tái)就是國(guó)產(chǎn)EDA工具利用AI改善Fab廠良率的典型案例。


Vision是基于圖形的工藝診斷分析平臺(tái),通過(guò)分析圖形在半導(dǎo)體制造各工藝中的變化,結(jié)合量檢測(cè)數(shù)據(jù)和圖像,可改善良率降低問(wèn)題。


工藝開(kāi)發(fā)階段,智能風(fēng)險(xiǎn)預(yù)測(cè)(Vision HP)分析芯片面積2%的關(guān)鍵區(qū)域,能鎖定16000 +個(gè)獨(dú)特風(fēng)險(xiǎn)點(diǎn),缺陷捕獲率較傳統(tǒng)方式提升百倍。生成式輪廓預(yù)測(cè)(Vision ID)可根據(jù)設(shè)計(jì)版圖生成硅片實(shí)際輪廓預(yù)測(cè)結(jié)果,實(shí)現(xiàn)“設(shè)計(jì)即預(yù)測(cè)”。


量產(chǎn)階段,Vision平臺(tái)的智能缺陷分析與采樣(Vision PD)融合設(shè)計(jì)屬性與缺陷特征,自動(dòng)識(shí)別共性特征,快速定位系統(tǒng)性缺陷根源,避免遺漏關(guān)鍵缺陷;離線智能量測(cè)革命(Vision ID)打破設(shè)備對(duì)量測(cè)效率的限制,支持多種主流設(shè)備圖像,無(wú)需占用機(jī)臺(tái)資源。


總之,Vision平臺(tái)打通設(shè)計(jì)、掩膜、晶圓、產(chǎn)品全鏈條數(shù)據(jù),解決了傳統(tǒng)工具數(shù)據(jù)割裂、分析片面的問(wèn)題,借助EDA+AI讓良率提升路徑更清晰。


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