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扇形封裝材料:技術(shù)突破和市場(chǎng)擴(kuò)張的雙重奏

3天前

從臺(tái)積電來(lái)看,電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 InFO 封裝在蘋果 A10 芯片首次商業(yè)化,面板級(jí)封裝領(lǐng)域中國(guó)廠商的集體突破,材料創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)鏈重構(gòu)共同推進(jìn)了封裝材料領(lǐng)域的一場(chǎng)技術(shù)革命。


據(jù) Yole 數(shù)據(jù),2025 年度全球風(fēng)扇出型封裝材料市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)突破 8.7 億美元,其中中國(guó)市場(chǎng)是以億美元為基礎(chǔ)的 21.48% 復(fù)合性增長(zhǎng)率領(lǐng)先世界,顯示出強(qiáng)大的產(chǎn)業(yè)韌性。


扇形封裝的核心材料體系包括三個(gè)關(guān)鍵層次:重構(gòu)載板材料、重走線層次(RDL)材料及封裝保護(hù)材料。傳統(tǒng)的載板重構(gòu) BT 在玻璃基板和有機(jī)復(fù)合材料方面,樹(shù)脂面臨著雙重挑戰(zhàn)。


低熱膨脹系數(shù)在日本住友化學(xué)研究開(kāi)發(fā) BT 樹(shù)脂(CTE<20ppm>


RDL 材料的技術(shù)突破直接決定了扇出封裝。 I/O 密度上限。選擇韓國(guó)三星電子 193nm 浸沒(méi)式光刻工藝開(kāi)發(fā)的銅柱沉孔材料,線距精度達(dá)到 2 μ m,支持每平方毫米超 1000 個(gè)節(jié)點(diǎn)。這是一個(gè)材料系統(tǒng) AMD Instinct MI300 系列 AI 在芯片中實(shí)現(xiàn)應(yīng)用,使芯片間通信延遲縮短 0.5ns。


與此同時(shí),德國(guó)巴斯夫推出的新型納米二氧化硅添加了環(huán)氧模塑料,以確保優(yōu)異的導(dǎo)熱性能(傳熱系數(shù)>2.5W/m · K)在保持吸水性的同時(shí), 0.05% 下面。這是材料 5G 在毫米波射頻模組中的應(yīng)用,使封裝體在 -55 ℃ ~125 在極端溫度下,循環(huán)壽命提高到極端溫度 1000 次左右。


智能手機(jī)射頻前端芯片在消費(fèi)電子領(lǐng)域的集成度每提高一代,對(duì)風(fēng)扇封裝面積的需求就會(huì)增加。 30%。蘋果 A17 Pro 臺(tái)積電用于芯片 InFO_PoP 技術(shù),將系統(tǒng)級(jí)封裝尺寸壓縮到系統(tǒng)級(jí)封裝 9.8mm × 9.8mm,這背后是 RDL 材料線寬從 4 μ m 向 2 μ m 跳躍進(jìn)步。市場(chǎng)數(shù)據(jù)顯示,2025 年度智能手機(jī)領(lǐng)域扇出封裝材料市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到 3.2 億美元,占整個(gè)市場(chǎng)的一億美元 37%。


與此同時(shí),特斯拉是安森美半導(dǎo)體。 Model 3 選擇碳化硅功率模塊進(jìn)行研究 FOPLP 三相逆變器集成封裝技術(shù)實(shí)現(xiàn)。該方案采用高導(dǎo)熱氮化鋁基板(傳熱系數(shù)>170W//m · K)耐高溫環(huán)氧灌封材料(Tg>180 ℃),縮小功率模塊體積 熱阻降至40% 0.5 ℃ /W。據(jù) Yole 預(yù)測(cè),2025 年度汽車配扇出封裝材料市場(chǎng)規(guī)模將突破 2.5 1億美元,復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)到 28%。


并隨著 3nm 流程節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn),傳統(tǒng)的封裝方案已經(jīng)不能滿足芯片間信號(hào)完整性的要求。這是英特爾公布的 Foveros Direct 3D 銅的堆疊技術(shù) - 石墨復(fù)合埋孔材料 TSV 將導(dǎo)通電阻降低到 2.5m Ω,提高導(dǎo)熱效率 200%。這類材料系統(tǒng)的應(yīng)用,使得封裝體承載 10000 個(gè)以上 I/O 與此同時(shí),仍然可以保持0.1。dB 消耗信號(hào)。<0.1dB 的信號(hào)消耗。


材料性能的極限突破當(dāng)然仍然是一個(gè)核心問(wèn)題。目前 RDL 材料的線距精度和理論極限(1) μ m)仍有 30% 差距,需要開(kāi)發(fā)波長(zhǎng)較短的差距。 EUV 光刻膠。基材翹曲控制難題尚未完全解決,515毫米 × 510mm 在高溫工藝中,面板的變形量仍然超過(guò) 50 μ m,制約良率的提高。


產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)建設(shè)成為破局的關(guān)鍵。從材料配方設(shè)計(jì)到生產(chǎn)工藝優(yōu)化,封裝廠、設(shè)備供應(yīng)商和材料供應(yīng)商需要形成深度合作。三星電子和 ASML 專用曝光機(jī)的合作開(kāi)發(fā), FOPLP 產(chǎn)線的 RDL 層曝效率提高 30%,這種垂直整合方法值得國(guó)內(nèi)參考。


新興應(yīng)用領(lǐng)域不斷拓展材料界限。量子計(jì)算芯片封裝需求催生了超導(dǎo)材料的應(yīng)用。英特爾實(shí)驗(yàn)室正在測(cè)試鈦合金的低溫鍵合材料。 4K 在溫度下實(shí)現(xiàn)電路電阻10 μΩ。植入式芯片在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,促進(jìn)了可降解封裝材料的創(chuàng)新,聚乳酸 - 羥基乙酸聚合物(PLGA)機(jī)械性能接近傳統(tǒng)環(huán)氧樹(shù)脂。<10 μΩ。生物醫(yī)療領(lǐng)域的植入式芯片,則推動(dòng)可降解封裝材料的創(chuàng)新,聚乳酸 - 羥基乙酸聚合物(PLGA)的力學(xué)性能已接近傳統(tǒng)環(huán)氧樹(shù)脂。


總結(jié)


扇出型封裝材料正從單一功能向智能協(xié)同演變,站在工業(yè)變革的臨界點(diǎn)。伴隨著 3D 隨著集成、異構(gòu)計(jì)算等技術(shù)的成熟,材料體系將突破物理極限,為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)造新的發(fā)展水平。在這個(gè)過(guò)程中,中國(guó)公司的材料創(chuàng)新能力和產(chǎn)業(yè)鏈整合水平將成為決定全球競(jìng)爭(zhēng)格局的關(guān)鍵變量。


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