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英特爾 1.4nm 首秀,能否反超臺積電在此一舉?

商界觀察
2024-02-27

最近,Intel 消息頻傳:

 

Intel 3 準(zhǔn)備就緒;

 

18A 節(jié)點拿下微軟大單;

 

3 年后重回全球晶圓代工技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者;

 

2030 年成為全球第二代晶圓代工廠;

 

……

 

英特爾的偉大轉(zhuǎn)型似乎走到了一個新的關(guān)鍵節(jié)點。在剛剛結(jié)束不久的直面會上,「藍色巨人」英特爾宣告英特爾代工服務(wù)部門 IFS(Intel Foundry Services)正式更名 Intel Foundry,與此同時還全面更新了路線圖,包括英特爾 14A(1.4nm)工藝的首次亮相。

 

作為 IDM 2.0 最核心的環(huán)節(jié),「晶圓代工」意味著英特爾不再只為自身制造芯片,開始像臺積電一樣,為其他芯片設(shè)計公司以及英特爾的產(chǎn)品業(yè)務(wù)部門等客戶制造芯片,這也倒逼英特爾在芯片制造工藝上加速追趕臺積電、三星等技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者。

 

在此之前,英特爾原先的 IDM(垂直整合制造)模式已經(jīng)無以為繼:芯片制造工藝上的技術(shù)路線誤判,造成了制程上的全面落后,在 14nm 上耗費了太多時間和精力,同時也影響到了其產(chǎn)品被蘋果棄用、被 AMD 超越,甚至被消費市場廣泛調(diào)侃為「牙膏廠」。

 

不過在 IDM 2.0 轉(zhuǎn)型將近三年后的今天,很多事情都發(fā)生了變化,尤其是新一輪的生成式人工智能浪潮,以及晶圓代工從芯片的制造環(huán)節(jié)越來越多延伸到封裝等環(huán)節(jié)的趨勢。正如英特爾現(xiàn)任 CEO 帕特 · 基辛格說的:

 

這是英特爾代工廠發(fā)展的關(guān)鍵時刻。我們看到了重新定位英特爾系統(tǒng)代工廠的機會。

 

擴展「四年計劃」,英特爾工藝路線圖再刷新

 

按照基辛格在 2021 年制定的計劃,英特爾將在 4 年內(nèi)更新 5 個工藝節(jié)點。在 Intel 7 之后,Intel 4 已經(jīng)在最新的酷睿 Ultra 移動處理器上落地,官方宣稱其代表著英特爾 40 年來最重大的架構(gòu)變革。

 

另一邊,Intel 3(名義上是 3nm)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒,英特爾去年 7 月就宣布了 Intel 3 工藝在產(chǎn)能和性能方面達標(biāo),將于 2024 年發(fā)布的兩款至強處理器—— Granite Rapids 和 Sierra Forest(分屬 P-Core 和 E-Core 產(chǎn)品線)都將采用 Intel 3 工藝進行制造。

 

圖 / 英特爾

 

作為英特爾的第一個大批量 EUV(極紫外)節(jié)點,Intel 3 還將在未來幾年推出不同版本,包括將于今年推出支持硅通孔(TSV)的 Intel 3-T、將于 2025 年推出功能擴展的 Intel 3-E 以及更之后基于第二代 TSV 技術(shù)帶來更高性能的 Intel 3-PT。

 

再之后,英特爾還將陸續(xù)正式推出采用 PowerVia 背面供電技術(shù)的 20A(2nm)、18A(1.8nm)工藝。

 

20A 節(jié)點命運多舛。原本英特爾 Arrow Lake 以及高通都計劃采用 20A 工藝,但后續(xù)不斷有消息指出,Arrow Lake 已經(jīng)轉(zhuǎn)向臺積電 3nm。包括基辛格剛剛也證實,即將推出的兩款處理器均將采用臺積電 3nm 工藝制造。

 

而根據(jù)天風(fēng)國際分析師郭明錤去年的一份報告,高通也早已停止開發(fā) Intel 20A 芯片。同時還傳出 20A 工藝將僅供英特爾產(chǎn)品部門采用,不會主動面向第三方客戶提供。在英特爾最新的路線圖中,也沒有推出 20A 后續(xù)工藝版本的任何計劃,在某種程度也佐證了之前的傳聞。

 

相比之下,18A 則受到越來越多的重視。不僅是得到了新思科技(EDA 巨頭)、ARM 等半導(dǎo)體生態(tài)廠商的廣泛支持,也有越來越多芯片設(shè)計公司的「青睞」,微軟 CEO 薩蒂亞 · 納德拉 ( Satya Nadella ) 也在這次直面會上官宣:

 

微軟將基于 Intel 18A 工藝制造芯片。

 

微軟沒有明說這款芯片的詳情,但就在去年末,微軟剛剛發(fā)布了兩款與人工智能息息相關(guān)的自研芯片—— Maia 100 AI 芯片和 Cobalt 100 CPU。如果不出意外,就是這兩款芯片將采用英特爾最新的 18A 工藝。

 

此外,英特爾在最近剛剛完成了 18A 主要產(chǎn)品 Clearwater Forest 的流片,后續(xù)還計劃推出性能提升的 18A-P 節(jié)點。

 

而在這版路線圖中,除了一系列迭代版本的增加,最值得關(guān)注的部分還是首次公布了 14A(1.4nm)及其迭代版本 14A-E,這將是英特爾真正重回全球晶圓代工技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者的關(guān)鍵。

 

從 14nm 到 14A,英特爾要反超臺積電

 

如果從 2015 年推出采用 14nm 工藝的 Skylake 算起,到 2025 年英特爾正式投入 18A 工藝的量產(chǎn),正好是 10 年。這 10 年中,英特爾有 7 年始終困在從 14nm 到 10nm 的升級,而留給英特爾從 10nm 跨越到 18A(1.8nm)的時間,滿打滿算也只有:

 

3 年。

 

如果可以如期實現(xiàn),這將是一場技術(shù)和工程的「奇跡」。而屆時,英特爾也將在工藝制程上完成對領(lǐng)先集團(臺積電、三星)的追趕。

 

按照目前英特爾和臺積電的路線圖,英特爾將在 2025 年實現(xiàn) 18A 工藝的量產(chǎn),臺積電 2nm 也將在 2025 年正式投入量產(chǎn)。

 

圖 / 臺積電

 

這里需要指出的是,雖然英特爾的 18A 工藝名義上是 1.8nm 制程,基辛格也多次強調(diào)該制程相比臺積電 2nm 工藝的領(lǐng)先,但實際比較晶體管密度,兩者相差無幾,也都采用下一代 GAA(全環(huán)繞柵極)架構(gòu)。

 

從 Fin FET 到 GAAFET,圖 / 三星

 

目前來看,英特爾 18A 更直接的優(yōu)勢還是來自獨有的背面供電技術(shù)等,當(dāng)然臺積電 2nm 也會有一些獨有的技術(shù)優(yōu)勢。但總體而言,英特爾 18A 工藝實際對標(biāo)就是臺積電、三星的 2nm 工藝。

 

換言之,英特爾要到下一個工藝節(jié)點—— 14A 才可能真正反超臺積電。

 

按照英特爾的計劃,他們將于 2027 年前開發(fā)出 14A 工藝,并且將在該節(jié)點首次采用 ASML 的 High-NA EUV(高數(shù)值孔徑極紫外)光刻機。事實上,光刻機巨頭 ASML 去年末就在 X(原 Twitter)上宣布首套 High-NA EUV 光刻機正從荷蘭 Veldhoven 總部開始裝車發(fā)貨,將向英特爾俄勒岡廠進行交付:

 

「我們很高興、也很自豪,能夠向英特爾交付我們的第一個 High-NA EUV 系統(tǒng)?!?/p>

 

按照 ASML CEO Peter Wennink 的說法,單臺 High-NA EUV 的價格在 3 億到 3.5 億歐元(約合人民幣 22.6 億元到 26.4 億元)之間,英特爾的首發(fā)搶購,也恰恰說明了其對奪回技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者地位的迫切和重視。

 

寫在最后

 

英特爾會完成這場痛苦而漫長的轉(zhuǎn)型嗎?

 

很難說。但在 2021 年基辛格重回英特爾之前,「藍色巨人」已經(jīng)到了不得不變的地步。三年后的今天,英特爾的問題還有不少,IDM 2.0 轉(zhuǎn)型還在爭議聲中繼續(xù)推進,他們沒有選擇分拆晶圓代工業(yè)務(wù),而是將代工和產(chǎn)品業(yè)務(wù)分成兩個獨立財務(wù)核算的部分。

 

而新一輪的生成式 AI 浪潮帶來了更多對英特爾的質(zhì)疑,倚重 CPU 而忽視了 GPU,讓英特爾錯失了大量的機遇,也大幅增加了在數(shù)據(jù)中心市場的「失守」風(fēng)險。不過同時,生成式 AI 也讓所有人,尤其是英特爾看來了再造 PC 的巨大潛力。

 

這些都是當(dāng)下英特爾最直接面對的挑戰(zhàn),我們唯一可以確定的是,英特爾的這場「偉大轉(zhuǎn)型」還沒有到蓋棺定論的時刻。

 

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