電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文 / 莫婷婷）近日，龍圖光罩宣布珠海項目順利投產(chǎn)，公司第三代掩模版PSM產(chǎn)品取得顯著進展。KrF - PSM和ArF - PSM已陸續(xù)送往部分客戶進行測試驗證，其中90nm節(jié)點產(chǎn)品已成功從研發(fā)邁向量產(chǎn)，65nm產(chǎn)品也已開始送樣驗證。

掩模版，也叫光罩，是集成電路制造時的圖形轉(zhuǎn)移工具或母板，承載著圖形和工藝技術(shù)信息，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、電路板、觸控屏等領(lǐng)域。其作用是通過曝光，把承載的電路圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓等基體材料上，從而實現(xiàn)集成電路的批量生產(chǎn)。

長期以來，半導(dǎo)體掩模版市場被美國Photronics、日本Toppan和DNP等國際巨頭主導(dǎo)。本土企業(yè)起步晚、技術(shù)積累薄弱，當(dāng)前量產(chǎn)能力主要集中在350nm - 130nm中低端制程，130nm以下先進工藝布局不足。據(jù)中國電子協(xié)會官網(wǎng)數(shù)據(jù)，目前中國半導(dǎo)體掩模版國產(chǎn)化率約10%，90%依賴進口，高端掩模版國產(chǎn)化率僅約3%。

90nm先進工藝節(jié)點具有重要戰(zhàn)略意義，它是衡量本土企業(yè)突破技術(shù)瓶頸、縮小與國際差距的關(guān)鍵指標(biāo)，對推動我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控意義重大。

90nm是連接成熟制程與先進制程的關(guān)鍵節(jié)點，其技術(shù)突破有助于填補國內(nèi)中高端掩模版領(lǐng)域空白，提高國產(chǎn)化水平，還能為先進邏輯芯片、高性能模擬芯片及特色工藝（如先進封裝）的發(fā)展提供有力支持。如今，以龍圖光罩為代表的國內(nèi)企業(yè)正加快技術(shù)追趕，逐步向65nm、40nm乃至更先進節(jié)點邁進，這標(biāo)志著我國掩模版產(chǎn)業(yè)正邁向高端化與自主化的新階段。

目前，龍圖光罩在半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域的工藝水平大幅提升，已從130nm穩(wěn)步提升至65nm，還完成了40nm工藝節(jié)點的產(chǎn)線配置。其產(chǎn)品應(yīng)用廣泛，不僅在信號鏈與電源管理集成電路等成熟制程領(lǐng)域發(fā)揮重要作用，還在功率器件、微機電系統(tǒng)（MEMS）傳感器及先進封裝等特色工藝制程中具有重要地位。

龍圖光罩表示，公司更高制程節(jié)點的產(chǎn)品已在某全球領(lǐng)先的晶圓代工廠完成流片，在線收集的各項關(guān)鍵驗證數(shù)據(jù)均符合客戶要求。該節(jié)點驗證通過后，公司將能滿足該客戶三分之一以上的產(chǎn)品需求。此外，更高等級的產(chǎn)品也在進行前期工藝匹配，預(yù)計下半年開始流片驗證。

隨著產(chǎn)品流片驗證的推進，龍圖光罩將覆蓋更多客戶。

產(chǎn)能方面，今年3月，龍圖光罩稱，深圳工廠目前產(chǎn)能利用率穩(wěn)定在較高水平。由于掩模版產(chǎn)品高度定制化，需根據(jù)客戶特定需求生產(chǎn)，很難達到理想的滿產(chǎn)狀態(tài)，但現(xiàn)有產(chǎn)能利用率能保障客戶訂單按時交付，同時兼顧產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。珠海工廠年達產(chǎn)產(chǎn)能規(guī)劃為1.8萬片，預(yù)計達產(chǎn)產(chǎn)值為5.4億元。

值得注意的是，珠海龍圖IPO募投項目定位為130 - 65nm制程節(jié)點的半導(dǎo)體掩模版。二期工程公司將規(guī)劃建設(shè)更高制程節(jié)點的掩模產(chǎn)品，目前正在進行二期廠房建設(shè)，并已啟動28nm制程半導(dǎo)體掩模版的規(guī)劃。

從龍圖光罩對投資者問詢的答復(fù)中，可以了解到其第三代掩模版PSM產(chǎn)品的研發(fā)進展：今年3月，龍圖光罩回復(fù)投資者稱，公司初步完成第三代光罩產(chǎn)品的工藝調(diào)試和樣品試制，產(chǎn)能釋放進度取決于客戶工藝匹配、送樣認證和開始小批量采購的周期。今年4月，龍圖光罩表示，客戶使用PSM樣品流片的Wafer已成功下線，in line收集的各項驗證數(shù)據(jù)均滿足客戶要求，產(chǎn)品驗證和導(dǎo)入進展順利，預(yù)計年內(nèi)可正式投產(chǎn)。

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